Doprava zdarma se Zásilkovnou nad 1 299 Kč
PPL Parcel Shop 54 Balík do ruky 74 Balíkovna 49 GLS 54 Zásilkovna 44 Kurýr GLS 74 PPL 99

Development of Interference Lithography Capability Using a Helium Cadmium Ultraviolet Multimode Laser for the Fabrication of Sub-Micron-Structured Opt

Jazyk AngličtinaAngličtina
Kniha Brožovaná
Kniha Development of Interference Lithography Capability Using a Helium Cadmium Ultraviolet Multimode Laser for the Fabrication of Sub-Micron-Structured Opt Stanley D Crozier
Libristo kód: 08143237
Nakladatelství Biblioscholar, října 2012
The goal of this work is to develop unique holograms on a semiconductor-metal thin films to characte... Celý popis
? points 150 b
1 502 včetně DPH
Skladem u dodavatele Odesíláme za 15-20 dnů

30 dní na vrácení zboží


Mohlo by vás také zajímat


All About Us: (Aline Deal's Autobiography) Michael Raine / Brožovaná
common.buy 391
Innocent and the Merciless Auna Raunea / Pevná
common.buy 681
Miscellaneous Writings and Speeches (Macaulay) Lord Macaulay / Brožovaná
common.buy 438
Total Force Integration Robert S Oates / Brožovaná
common.buy 1 502
City Branding and New Media Maria Cristina Paganoni / Pevná
common.buy 2 220
How Race Survived Us History David R. Roediger / Brožovaná
common.buy 417
Soul on Fire. [A Tale.] Church Marryat / Brožovaná
common.buy 621
Dialog Gert Rickheit / Pevná
common.buy 6 757
Csr Und Value Chain Management Michael D heur / Brožovaná
common.buy 1 676
Conversations with an Angel Dr. Randy Schuneman DMin DAd / Pevná
common.buy 993

The goal of this work is to develop unique holograms on a semiconductor-metal thin films to characterize as potential metamaterials. This is achievable by developing a fabrication recipe to include exposure methods, exposure dosages, and material development. This study developed an interference lithography capability at AFIT for the first time with period resolution below 230nm. It also identified initial acceptable photoresist materials and exposure dosages, and a path to follow to optimize this process.

Informace o knize

Plný název Development of Interference Lithography Capability Using a Helium Cadmium Ultraviolet Multimode Laser for the Fabrication of Sub-Micron-Structured Opt
Jazyk Angličtina
Vazba Kniha - Brožovaná
Datum vydání 2012
Počet stran 96
EAN 9781249829553
ISBN 9781249829553
Libristo kód 08143237
Nakladatelství Biblioscholar
Váha 186
Rozměry 189 x 246 x 5
Darujte tuto knihu ještě dnes
Je to snadné
1 Přidejte knihu do košíku a zvolte doručit jako dárek 2 Obratem vám zašleme poukaz 3 Kniha dorazí na adresu obdarovaného

Přihlášení

Přihlaste se ke svému účtu. Ještě nemáte Libristo účet? Vytvořte si ho nyní!

 
povinné
povinné

Nemáte účet? Získejte výhody Libristo účtu!

Díky Libristo účtu budete mít vše pod kontrolou.

Vytvořit Libristo účet